【主管Q:34518577】无极网页登录又到了超紫外光(EUV)微影技术的关键时辰了。纵观整个半导体开展蓝图，研讨人员在日前举行的IMEC技术论坛(ITF)上针对EUV微影提出了各种大大小小行将呈现的应战。
到了下一代的10nm节点，降低每电芯片体本钱将会变得非常棘手。更具应战性的是在7nm节点时导入EUV微影。更进一步来看，当扩展到超越5nm节点时可能就需求一种全新的芯片片技术了。

目前最火烧眉毛的是中期应战。假如持久以来不断延迟的EUV微影系统未能在2017年早期就绪的话，7nm制程将会成为一个昂贵的半节点。

不过，研讨人员们悲观地看好EUV将会及时准备好，但也预期接下来将呈现诸多应战：

-光源必需至少晋级到180W，无极需要登录吗?目前最佳的是ASML展现的110W光源；

-系统必需至少有80%的时间可用，当今系统的可用性约仅50-60%；

-系统必需从每小时70-80片芯片产出增加到更接近每小时200片芯片；

-光阻剂必需具有更高感光度，才干以更低剂量与较不粗糙的边缘作业；

-必需设计新的芯片维护盖——即薄膜(pellicle)，以取代目前ASML提供应客户用于80-110W低功耗级的原始薄膜；

-在查找与修复缺陷方面还需求进一步的改善。

IMECCEOLuc Van den Hove坚信，“EUV可望从7nm节点开端导入制造制程。”IMEC曾经为多年来努力于开发EUV系统的先进研讨芯片厂投入高达13亿美圆了，无极168目前也已在全球装置的8套最新系统中占有一席之地。

简直一切的主要芯片片制造商都与IMEC协作，针对下一代节点展开前期竞争性研讨。今年，东芝(Toshiba)与SanDisk也参加了这一方案。