【主管Q:34518577】无极首页在1Xnm 的设计节点上，制程空间、线宽和图案叠层对准容错都会缩减。量测系统的应战是逾越各种资料、制程和patterning技术，丈量和控制与制程、关键尺寸及叠层对准相关的极细微差别。针对以上应战，KLA-Tencor 的5D patterning控制处理计划，无极注册链接着重处理patterning制程控制的五个要素问题──元件的三个几何尺寸、完成结果所需时间和整体设备效率。
5D patterning控制处理计划可经过整个芯片厂制程(微影模组内部和外部)的表征、最佳化和监控来推进最优patterning结果。例如，在微影模组中，KLA-Tencor 的 Archer500LCM 叠层对准和 SpectraShape9000 关键尺寸量测系统可以辨认和监测patterning误差。SpectraFilm LD10、WaferSight PWG 和 LMS IPRO6 系统超越微影单元，能够隔离额外的制程或光罩相关patterning误差来源。

这些综合性量测处理计划采用 K-T Analyzer先进的运转时间材料剖析提供援助，允许智能回馈和前馈制程控制循环。思索到这些芯片厂范围内的patterning差别来源，5D 处理计划能够应用现有的制程设备，辅佐芯片片制造商取得更快、更具本钱效益的先进patterning技术改善。

在16/14 纳米的设计节点上，叠层对准容错约为4.5 纳米。在10 纳米节点上，叠层对准预算约为3.5 纳米。由于超紫外线 (EUV) 微影量产的延迟，1Xnm 设计节点采用了 multiple patterning 和 spacer pitch splitting技术。

Multi-pattering技术会由于随着产生构造所需的制程步骤增加而使得相关的量测愈加应战。例如，无极首页假如运用double patterning微影，则叠层对准丈量系统必需可以对层内叠层对准误差(within-layer overlay error)和层间叠层对准误差 (layer-to-layer overlay error)提供精准回馈。

由于multi-patterning技术增加了patterning复杂性，因而还需求监控整个芯片厂的制程，以辅佐积体电路工程师理解整个芯片厂范围的制程对最终patterning有何影响。在这一环境下，KLA-Tencor 的5D 图案成型控制处理计划等量测处理计划，关于取得最佳patterning结果至关重要。

随着设计节点缩减，制程变异对patterning质量会有更大影响。量测的目的是要发现、表征和监控这些差别，以便提升总体安装的良率和牢靠性。

Archer500LCM 的基于散射的叠层对准丈量技术运用业界无独有偶的雷射光源，完成更高精度的丈量，并援助宽广的量测目的间距(target pitch)，可确保设计规则和制程的相容性。较小的雷射光斑还允许运用足够小的量测目的，以便放置于芯片片内，这样可产生较高采样率，在先进的设计节点上完成所需求的叠层对准控制级别。

叠层对准丈量精度取决于多项要素，包括目的设计(target design)、叠层对准丈量系统的光学设定，以及可用的演算法。Archer500LCM 分离了基于成像和基于散射的丈量技术、各种各样的光学设定，以及创新的演算法，为IC制造商提供了针对一系列处置层、设计节点和良率改良阶段的精准度停止最佳化所需的灵敏性。经过提供高精准叠层对准丈量，Archer500LCM 让IC制造商可以取得产生更好patterning结果所需的回馈。

Archer500LCM 在多个积体电路制造厂内用于量产。叠层对准丈量时间与当站制程、设计节点和其他要素高度相关联。在大量消费中，Archer500LCM 基于散射和基于成像的技术均可提供在先进安装上援助叠层对准误差丈量所需的产能。

薄膜丈量的主要应战是：为在先进设计节点技术中运用的各种薄膜资料和薄膜叠层提供产生高精准丈量所需的灵敏性。第二个应战是：维持高产能，以便丈量与复杂构造及多图案相关的更多薄膜层数。SpectraFilm LD10 统筹丈量性能改善与产能提升，可以应对16 纳米及以下尺寸薄膜量测的应战。

与传统弧光灯相比，SpectraFilm LD10 全新雷射驱动电浆光源可产生更高光强。这可产生更强的宽频功率，从而改善丈量精度；此外，其光稳定性取得改善，从而取得更好机台量测差别，以及更长的灯时(减少维修)。

SpectraFilm LD10 可为各种各样的薄膜层提供牢靠的高精度薄膜丈量。SpectraFilm LD10 的宽频光谱橢偏仪子系统用于丈量诸如 FinFET 等复杂安装构造成型中运用的超薄多层薄膜层积。全新的红外光谱橢偏仪子系统援助对较厚的多层薄膜层积停止丈量，例如3D NAND 快闪记忆体安装中的薄膜层积。

与上世代薄膜量测系统相比，SpectraFilm LD10 具备更高产能，可援助先进薄膜量测的消费请求。